Titanmål

Renhet
Purity is one of the main performance indicators of the target, because the purity of the target has a great influence on the performance of the film. However, in practical applications, the purity requirements for the target are not the same. For example, with the rapid development of the microelectronics industry, the silicon chip size has been developed from 6", 8" to 12", while the wiring width has been reduced from 0 . 5um till 0 . 25um, 0,18um eller till och med 0,13um, och de föregående 99,995% målrenheten kan uppfylla processkraven på 0,35um.
Föroreningsinnehåll
Föroreningar i målfasta ämnen och syre och vattenånga i porerna är de viktigaste föroreningskällorna för deponerade filmer . Mål för olika ändamål har olika krav för olika föroreningsinnehåll . till exempel, rena aluminium och aluminium Alloy -mål som används i semiconduktorn.
Densitet
In order to reduce the porosity in the target solid and improve the performance of the sputtered film, the target is usually required to have a high density. The density of the target not only affects the sputtering rate, but also affects the electrical and optical properties of the film. The higher the density of the target material, the better the performance of the film. In addition, increasing the density och målets styrka gör att målet bättre kan motstå den termiska spänningen under sputtering . densitet är också ett av de viktigaste prestandaindexen för målmaterialet .